NIMSにおける量子マテリアル基礎基盤研究に従事し、フォトニック結晶デバイスの作製及び可視光トポロジカル共振器面発光レーザーの開発を行う。MOCVD装置を用いたGaN系発光材料の結晶成長とNIMS微細加工プラットフォーム(NPF)の半導体プロセス装置を用いたナノスケールエッチング加工が主業務となる。半導体プロセス装置として主に電子ビーム描画装置、レーザー露光装置、ドライエッチング装置を使用する。(NPFの詳細情報は、https://www.nims.go.jp/nfp/index.htmlを参照)