ウエハー表面の研磨工程を効率化、新機構で高性能化したCMP装置

荏原製作所は、ウエハー表面を効率的に研磨するCMP装置「F-REX300XA型」を発表した。新たに開発した高効率搬送機構やWPH最適化アルゴリズムを搭載するなど、デバイスの高性能化により生産性を向上する。